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理想丰满现实骨感,未达预期的3D V-NAND技术
  • 2014-12-17 15:50:08
  • 类型:原创
  • 来源:电脑报
  • 报纸编辑:王诚
  • 作者:
【电脑报在线】去年三星率先发布的3D V-NAND技术,所有相关介绍都说其可以使SSD实现更高的存储密度、写入速度、更低的功耗以及更高的稳定性,让大家对其抱有很高的期望。

        去年三星率先发布的3D V-NAND技术,所有相关介绍都说其可以使SSD实现更高的存储密度、写入速度、更低的功耗以及更高的稳定性,让大家对其抱有很高的期望。就在本月,采用3D V-NAND技术的三星 850PRO和850EVO正式发布,这也意味着3DV-NAND已经实现商品化,那么全新的3DV-NAND技术的表现究竟如何呢?

3D V-NAND技术揭秘

        作为闪存芯片(NAND)制造的新技术,3D V-NAND主要从结构方面对闪存芯片进行了改进。在之前的闪存芯片中,采用的都是2D平面设计的存储单元(Cell)技术。使用3D V-NAND技术之后,则将闪存芯片中的晶体管竖了起来,然后用绝缘体和控制栅极环绕包围这这些晶体管,这样就形成了一个“站立”起来的同轴结构体。将这些同轴结构体一层层向上堆叠,形成多层结构,就构成了3D V-NAND的基本形态。


闪存芯片传统结构(左)和3D结构的对比(右)

        不难看出,使用3D V-NAND技术之后,好比让平房变成了高楼,就能在同一面积的闪存芯片中装入更多的存储单元,有利于增加单位面积内的存储容量。去年最早发布的3D V-NAND技术,只能堆叠24层,而在刚刚发布的三星新款850pro和850evo中,已经能实现32层的堆叠。


3D垂直堆叠技术的进化

 

本文出自2014-12-22出版的《电脑报》2014年第50期 E.硬件DIY
(网站编辑:pcw2013)


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